电子技术——MOS管的CV特性

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电子技术——MOS管的CV特性

电子技术——MOS管的CV特性

MOS管是一种压控晶体管,本节我们学习MOS管的CV特性,即电压-电流特性。MOS管的特性曲线有两种,分别是伏安特性和传导特性。

i D − v D S i_D-v_{DS} iD​−vDS​ 特性曲线

为了测量MOS管的 i D − v D S i_D-v_{DS} iDvDS 曲线,我们使用下面的电路:

电子技术——MOS管的CV特性
由上图可知,我们固定栅极电压 v G S v_{GS} vGS 然后调节源极-漏极电压 v D S v_{DS} vDS 来观察漏极电流 i D i_D iD 的变化。通过这样的方法,我们就可以绘制出MOS管的CV特性曲线如下图:

电子技术——MOS管的CV特性
图中显示了三个区域,分别是 截止区域 饱和区域 三极管区 。其中截止区域和三极管区作用于开关电路。

换句话说,如果MOS管用作于放大器,他必须处在饱和区。

图中展现了两条曲线,一种是在 v G S < V t n v_{GS} < V_{tn} vGS<Vtn 情况下测量的,此时MOS管永远工作在截止区,因为栅极没有足够大于阈值电压的电压来创建沟道,因此漏极电流恒为零。另一种是在 v G S = V t n + v O V v_{GS} = V_{tn} + v_{OV} vGS=Vtn+vOV 下测量,此时MOS管打开,可能处在三极管区,也可能处在饱和区。

三极管区和饱和区的边界即是 v D S v_{DS} vDS v O V v_{OV} vOV 之间的大小关系,若想MOS管工作在饱和区,那么必须使得 v D S > v G − V t n v_{DS} > v_{G} - V_{tn} vDS>vGVtn

i D − v G S i_D-v_{GS} iD​−vGS​ 特性曲线

由上节的知识,我们知道,当MOS管工作在饱和区的时候,此时 i D i_D iD v D S v_{DS} vDS 无关,只与 v O V v_{OV} vOV 有关,关系是:

i D = 1 2 k n ′ ( W L ) v O V 2 i_D = \frac{1}{2} k'_{n} (\frac{W}{L}) v_{OV}^2 iD=21kn(LW)vOV2

在不同 v O V v_{OV} vOV 测量得到的曲线如下:

电子技术——MOS管的CV特性
此时,我们假设MOS管工作在饱和区(漏极电压足够大),那么 i D − v G S i_D-v_{GS} iDvGS 特性曲线应该是如下的二次曲线:

电子技术——MOS管的CV特性

MOS管的有限内阻

观察伏安特性曲线,MOS管在饱和区显示出内阻无限大的特性(理想电流源),但是世上没有内阻无限大的电路,实际上MOS管一定是存在内阻的,改变 v D S v_{DS} vDS 电压产生的一个最大的效应就是会改变MOS管沟道的长度,如图所示:

电子技术——MOS管的CV特性
图中沟道减小的那一段距离 Δ L \Delta L ΔL 就是由电压 v D S − v O V v_{DS}-v_{OV} vDSvOV 造成的线性变化,进而影响 i D i_D iD 电流,这个效应称为 沟道长度调制效应

我们通过一个因子 λ \lambda λ 来描述这个变化, λ \lambda λ 参数是MOS管本身工艺和原始长度 L L L 决定的:

i D = 1 2 k n ′ ( W L ) v O V 2 ( 1 + λ v D S ) i_D = \frac{1}{2} k'_{n} (\frac{W}{L}) v_{OV}^2(1+\lambda v_{DS}) iD=21kn(LW)vOV2(1+λvDS)

电子技术——MOS管的CV特性

我们发现,新的曲线的延长线都交于一点 − V A = − 1 λ -V_A = -\frac{1}{\lambda} VA=λ1 ,即 V A = 1 λ V_A = \frac{1}{\lambda} VA=λ1 具有电压量纲。我们可以分离 L L L 变量:

V A = V A ′ L V_A = V_A' L VA=VAL

此时 V A ′ V_A' VA 只和MOS管本身工艺有关,这个电压也称为厄尔利电压。

引入沟道长度调制效应之后,我们发现,MOS管不再显示出无限内阻特性,而是等效于一个有内阻的电流源:

电子技术——MOS管的CV特性

这个内阻我们记为 r o r_o ro 定义为:

r o ≡ [ ∂ i D ∂ v D S ] v G S = c o n s t − 1 r_o \equiv [\frac{\partial i_D}{\partial v_{DS}}]^{-1}_{v_{GS}=const} ro[vDSiD]vGS=const1

求导可的:

r o = [ λ k n ′ 2 W L ( V G S − V t n ) ] − 1 r_o = [\lambda \frac{k_{n}'}{2} \frac{W}{L}(V_{GS} - V_{tn})]^{-1} ro=[λ2knLW(VGSVtn)]1

带入饱和电流公式:

r o = 1 λ I D = V A I D r_o = \frac{1}{\lambda I_D} = \frac{V_A}{I_D} ro=λID1=IDVA

其中 I D I_D ID 是之前无沟道长度调制效应时的饱和电流,由此可见,内阻和漏极电流成反比。文章来源地址https://www.toymoban.com/news/detail-426617.html

到了这里,关于电子技术——MOS管的CV特性的文章就介绍完了。如果您还想了解更多内容,请在右上角搜索TOY模板网以前的文章或继续浏览下面的相关文章,希望大家以后多多支持TOY模板网!

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